低溫等離子體表面改性具有如下特點(diǎn)良好的可靠性、重現(xiàn)性、非線形以及低成本,可以應(yīng)用于各種形狀的金屬、聚合物、陶瓷以及復(fù)合材料偽在等離子體輔助作用下易于產(chǎn)生活性成分,引發(fā)在常規(guī)化學(xué)反應(yīng)中不能或難以實(shí)現(xiàn)的物理變化和化學(xué)變化可對生物醫(yī)用材料和器械表面進(jìn)行消毒處理工藝簡單、操作方便、易于控制、對環(huán)境無污染。...
2023-03-21表面做過氧化鋁涂層后的外殼,水和環(huán)氧樹脂的浸潤性能有著十分顯著的降低,較未處理的陶瓷外殼表面的浸潤性差。經(jīng)過射頻等離子清洗(氬氣)處理后,兩種外殼表面的狀態(tài)均有所改善,說明等離子清洗提高了陶瓷外殼表面的浸潤性能。其中無氧化鋁涂層的陶瓷外殼,浸潤效果提升更加明顯,環(huán)氧樹脂的浸潤性能顯著提升。...
2023-03-17等離子體(plasma)對高分子材料的作用過程,通常比較復(fù)雜,有可能是在表面引入了特定官能團(tuán),使得材料具有其它性能,或者生成了表面自由基或者形成了交聯(lián)結(jié)構(gòu)層,或者產(chǎn)生了表面刻蝕,讓其它基團(tuán)暴露,通常這些作用都不是單一的,而是以某種作用為主,多種作用共同存在。...
2023-03-15聚烯烴有低的表面能、低的粘接性能,可被應(yīng)用于粘合、印刷、層壓等過程中,等離子體處理使EVA樹脂表面分子鏈上產(chǎn)生了極性基團(tuán),表面能、潤濕性等性能得到了明顯的改善。...
2023-03-14真空等離子表面處理主要是利用氬氣、氧氣、氮?dú)獾确蔷酆闲詿o機(jī)氣體的等離子體,當(dāng)它們作用于材料表面時(shí),就會(huì)在材料表面產(chǎn)生物理或化學(xué)反應(yīng)。參與反應(yīng)的粒子很多,不僅有自由基、激發(fā)態(tài)的分子以及離子,可以生成新的官能團(tuán),也包括等離子體輻射紫外光的作用,促使某些反應(yīng)的發(fā)生。...
2023-03-13為去除焊片的氧化層,采用射頻等離子清洗焊片表面的方法可以得到新鮮的焊料表面,并且增強(qiáng)焊料的潤濕性。并且采用等離子清洗,不會(huì)造成焊劑污染。...
2023-03-13氧等離子不僅可以改變ITO表面的化學(xué)組成,還可以去除表面含有的碳,對OLED器件性能具有較好的提升作用;而氬等離子體雖然不能改變器件表面的化學(xué)組成,但是可以對表面清潔,同時(shí)去除吸附在器件表面的氧,提升器件性能。...
2023-03-08相對其他等離子體射流,大氣壓低溫等離子體射流具有許多優(yōu)點(diǎn)。首先,它可在開放空間產(chǎn)生,不需要昂貴復(fù)雜的真空系統(tǒng),節(jié)約成本,也保證了安全,不受被處理物尺寸限制,能夠?qū)щ娏W?、激發(fā)態(tài)粒子、自由基等各種活性成分輸運(yùn)到被處理物表面,保證處理效果。...
2023-03-07等離子處理的PMMA表面上的羥基(O-H)經(jīng)硅烷化反應(yīng)組裝上偶聯(lián)劑中的硅氨基(Si-NH2),然后二次等離子體處理硅烷化后的PMMA,將帶有氨基官能團(tuán)的烷基硅分子降解為硅羥基(Si-OH),用于與等離子處理后的PDMS的硅羥基-Si-OH發(fā)生反應(yīng),實(shí)現(xiàn)鍵合...
2023-03-06與現(xiàn)有技術(shù)中對基板的清洗技術(shù)對比而言,等離子體清洗取代了液體化學(xué)清洗方法,以避免對基板上的功率器件和電路布線的腐蝕,同樣,取代了激光清洗方法,以減少粉塵的產(chǎn)生和對基板的沾污。...
2023-03-01Plasma表面清潔主要分成兩個(gè)反應(yīng)過程。在化學(xué)反應(yīng)過程中,活性粒子與有機(jī)分子結(jié)合,發(fā)生解鏈,中間形成新的不穩(wěn)定基團(tuán),最后分解成易揮發(fā)的二氧化碳和水;在物理反應(yīng)過程中,活性粒子在電場作用下,以一定速度和能量撞擊被清洗物體表面,克服分子與表面的結(jié)合力,使表面污染物分子分解或脫落,達(dá)到清洗的目的。...
2023-02-27真空等離子清洗機(jī)是用等離子體通過化學(xué)或物理作用對工件表面進(jìn)行分子水平處理,去除沾污,改善表面性能的工藝過程。對應(yīng)不同的污染物,應(yīng)采用不同的清洗工藝和頻率。 ...
2023-02-23