Plasma等離子清洗機的分類

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2023-12-14

等離子體（plasma）英譯過來的含義是電漿，因為它是一種含有自由電子、激發(fā)態(tài)粒子、亞穩(wěn)態(tài)粒子、基態(tài)粒子、離子和自由基的電離的導電氣體。當物質溫度升高或受到高能粒子轟擊、激光照射、強電磁場電離等時，核外電子脫離原子核束縛，形成由電子、離子、受激原子、分子、中性自由基組成的物質狀態(tài)，這種電離物質整體上保持電中性，稱為等離子體。

Plasma等離子清洗機的分類

根據等離子體產生的真空度，可以分為大氣壓等離子體和低氣壓等離子體，所以plasma等離子清洗機常見的又分為兩類，大氣plasma等離子清洗機，低氣壓plasma等離子清洗機。

低氣壓plasma等離子清洗機又分為：例如容性耦合等離子體(CCP)等離子清洗機，感性耦合等離子體(ICP)等離子清洗機，它們一般需要金屬容器反應器并接入機械泵和分子泵抽真空，因此相比于大氣壓等離子體，產生條件更為苛刻，經濟成本較高。但是，低氣壓等離子體中電子的平均自由程比大氣壓等離子體電子平均自由程小很多，導致等離子體電離程度更高。

大氣壓plasma等離子清洗機則是在常壓環(huán)境（1atm,101.325kPa）下產生的等離子體，在常壓環(huán)境下，因為粒子密度大，電子的平均自由程相對較短，阻礙了電子獲得更高的能量。因此，在大氣壓下形成的等離子體與在低氣壓下形成的等離子體相比，需要的擊穿場強會大得多。但大氣壓等離子體不需要復雜且昂貴的真空系統(tǒng)作為輔助設備，降低了反應裝置的成本和工藝的復雜性，提高了表面處理效率，是一種具有工業(yè)應用前景的氣體放電方法。

傳統(tǒng)工業(yè)中的等離子體應用主要以低氣壓等離子體為主（如表面改性，刻蝕等），因為與高氣壓相比，低氣壓下電子的平均自由程更大，電子更容易在電場中加速獲得更高的能量，所以等離子體在低氣壓下更容易產生，也更穩(wěn)定，但是需要復雜且昂貴的真空輔助設備。

以上就是國產等離子清洗機納恩科技關于plasma等離子清洗機的分類介紹，一般plasma等離子清洗機按照等離子體產生的氣壓環(huán)境主要分為低氣壓plasma等離子清洗機，和大氣壓plasma等離子清洗機兩種。