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等離子體處理儀

5L射頻等離子清洗機(jī)NE-PE05F

  • 產(chǎn)品型號(hào)：NE-PE05F
  • 性能特點(diǎn)：射頻等離子體發(fā)生器，等離子密度大
  • 產(chǎn)品用途：材料表面活化、清潔、改性、蝕刻
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  • 產(chǎn)品參數(shù)
NE-PE05F等離子清洗機(jī)采用電容式耦合輝光放電,內(nèi)電極放電形式。電源為200W射頻功率源,頻率為13.56MHz。輸出功率連續(xù)可調(diào)，射頻電源與射頻匹配器配合，通過阻抗匹配網(wǎng)絡(luò)調(diào)節(jié)射頻等離子體的入射功率和反射功率,使發(fā)生器與等離子體阻抗相匹配。射頻放電產(chǎn)生的等離子體密度大分布均勻，適合處理精度要求高的材料。
 

工藝流程：


設(shè)定低溫等離子清洗參數(shù)→樣品放入處理腔內(nèi)→打開真空泵→待真空度降至100 Pa以下→打開工藝氣體通道(空氣等)→開啟放電電源→取出樣品 。

等離子體處理原理：


等離子體表面處理就是讓等離子體與材料表面接觸，在等離子體作用下改變材料表面性能。等離子體表面處理通常采用非聚合性氣體如Ar、N2、H2、O2等，參與等離子體表面處理反應(yīng)。
 
電子在等離子體活性粒子中質(zhì)量小、運(yùn)動(dòng)速度快、能量高。電子和表面的相互作用主要的表現(xiàn)有三種：電子轟擊引起的二次電子發(fā)射，電子轟擊物體表面促使物體表面的吸附分子解離和電子誘導(dǎo)的化學(xué)反應(yīng)等。
 
離子和表面反應(yīng)分為三類：離子在物體表面的復(fù)合和離子入射物體表面引發(fā)二次電子發(fā)射、離子注入物體表面內(nèi)部將動(dòng)量傳遞給晶格原子致使晶格原子激發(fā)或電離，入射離子被物體表面反射或捕獲同時(shí)入射離子的轟擊還可能是物體表面濺射出粒子、離子誘導(dǎo)表面化學(xué)發(fā)應(yīng)等。
 
自由基和原子與表面的相互作用，主要是自由基和原子易被化學(xué)吸附在對其母體分子呈惰性的表面上。對于電子碰撞激發(fā)的亞穩(wěn)態(tài)分子易被解激發(fā)，解激發(fā)有可能導(dǎo)致化學(xué)反應(yīng)和脫附。
 
等離子體處理是一種清潔、環(huán)境友好的表面處理技術(shù),對材料的整體性能不產(chǎn)生影響,因此廣泛應(yīng)用于材料的表面處理,以提高其潤濕性、界面黏結(jié)性能等。與放射線處理、電子束處理等其他干式工藝相比,等離子體表面處理的獨(dú)特之處在于其作用深度僅涉及距離材料表面幾納米到幾百納米范圍,只改變材料表面的物理和化學(xué)特性,材料本身物理、化學(xué)特性不發(fā)生改變。這些優(yōu)點(diǎn)使得低溫等離子體技術(shù)成為改善材料界面結(jié)合效果的一種重要手段。
型號(hào) NE-PE05F
功率 0-200W可調(diào)
頻率 13.56 MHz
腔體材質(zhì) 進(jìn)口316不銹鋼
腔體容積 5L
腔體尺寸（圓形） Φ150×280（D）mm
有效處理范圍 130（W）*245(D)mm
真空度 ＜30Pa
工藝氣體通道 兩路（可通入氧氣、氬氣、氫氣氮?dú)獾龋?/span>
控制方式 PLC+觸摸屏控制
外形尺寸 560mm(L)×550mm(W) ×530 mm(H)
整機(jī)功率 1000W

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